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当北方的清晨亮起第一抹阳光，长春光机所地下实验室里，一场激动人心的实验，也终于开始了。

激光发生器开始预热，这是全套光刻机台中最核心的部件之一，由中科光电院设计制造。

激光光源射出后，首先会进入光束矫正器，矫正器共有三组，调整光束入射方向，让激光束尽量保持平行。

调整完毕的平行激光，会进入能量控制器。

顾名思义，能量控制器是调节激光功率的存在，控制最终照射到硅片上的能量大小。

像芯片这样的高精密制造业，无论曝光不足或者过足，都会严重影响出片质量，所以能量必须收到严格的控制。

能量控制器之后，是光束形状设置器，它可以设置光束形态，呈圆型，环型，散射型等等不同的形状，而不同形态的激光，又有着不同的光学特性。

光束形状设置器尾部，还有一组遮光器，在不需要曝光的时候，遮光器会把光束拦下来，防止光束照射到硅片上。

再然后是能量探测器，这个东西主要是检测光束功率的，它无法单独使用，而是将检测信号回馈给能量控制器，配合能量控制器进行功率调整。

调整完毕的激光束，会穿过掩模版，进入物镜。

掩膜版也叫光罩，简单来说呢，它就是一块内部刻着线路设计图的玻璃板，给硅片曝光用的，你想要什么样的半导体设计线路，就定制什么样的掩膜版。

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