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无线电厂芯片制造车间里，南园电子厂的三十名工程师仍然在跟着刘工努力学习着光刻机的使用技巧。

或许当初看光刻机使用步骤会觉得非常简单，无非就是涂胶、曝光、冲洗，最后刻蚀完事，这能有什么难的？可当后来刘工分步骤的一步步给他们讲解，才让他们明白这里面的门道有多深。

就拿第一步的涂胶来说，字面意思就是给硅片上涂一层光刻胶，因为光刻实际就是刻的这些光刻胶，而不是硅片。

这些光刻胶被特定波长的光照就会被溶解清除，再放进特定的化学溶剂里浸泡，最终得出自己想要的硅片，一次光刻就此完成。

听起来好像很简单，可涂胶不是摊煎饼果子，也不会允许你拿个小铲子给光刻胶抹匀，事实上那样也根本抹不匀。

一般都是通过高速旋转利用离心力的作用完成，虽然期间绝大部分的光刻胶会被甩出去浪费掉，但却能保证光刻胶的绝对均匀。

“但就算这样你仍然不能保证把光刻胶涂好，因为胶体在离心力的作用下很容易在硅片周围堆积甚至是流到背面，我们为了避免这种情况，在涂光刻胶的同时要进行不断的吹风，最后还要进行去边处理。”

听着刘工的讲课，大多数工程师都很蒙圈，他们很久没有这么高强度的学习，注意力有点跟不上了。

除此之外他们也是真没想到光刻能这么复杂，这还只是第一步的涂胶，还没开始光刻呢，就这么复杂了？

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