之所以孙祖杰这么牛逼轰轰，敢做这样的赌博，就是因为孙祖杰在八十年代投资启动研究的几款雷射器，尤其是ArF 193nm雷射器终于在1997年开发成功，这是一个具有战略意义的重大突破。

而最先进的极紫外光EUV技术，华国经过长期不懈的攻关，目前也已经取得了不少的成果。

之所以在光源上取得突破，原因就是华国的雷射技术一直处于世界一流水准。有了不少投资，又有了明确的方向，取得发展是必然的。

华吉光电所搞出的雷射器虽然功率低了一些，但是勉强可以使用，这也迫使倭美两国不得不陆续放弃了对华国在这一领域的技术封锁。

孙祖杰对他们取得的成功非常高兴，华投紧接着又拨给他们一千万华元资金，要求ArF 193nm雷射器必须达到西方同等水平。

但是光源只是光刻机一小部分，作为最尖端的机电一体化产品，华国自产的光刻机最大的问题就是套刻精度不够和生产效率不行。

套刻精度与光刻分辨力密切相关。如果要达到0.10μm的光刻分辨力，根据33%法则要求套刻精度不低于0.03μm。

套刻精度主要与工件台和掩模台定位精度、光学对准精度、同步扫描精度等因素有关，定位精度、对准精度和同步扫描精度分别约为套刻精度的1/5～1/3，即0.006～0.01μm。

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